专利名称：基板清洗方法及装置专利类型：发明专利发明人：松井英章,守屋刚申请号：CN200910207039.X申请日：20091027公开号：CN101728243A公开日：20100609
摘要：本发明提供一种不会产生图案毁坏的基板清洗方法。在清洗、除去附着在晶片(W)表面的颗粒(P)的基板清洗方法中，具有：加热晶片(W)通过热应力使附着在晶片(W)表面的颗粒(P)从晶片(W)表面剥离的加热步骤；通过晶片(W)表面附近产生的温度梯度使颗粒(P)从晶片(W)表面脱离的脱离步骤；通过与晶片(W)相对配置的捕集板(13)捕集从晶片(W)表面脱离的颗粒(P)的颗粒(P)的捕集步骤。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人：龙淳
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