专利名称：一种宽带光吸收体结构及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：崔艳霞,邱开放,李国辉,高琳华,石林林,王文艳,郝玉
英,吴玉程
申请号：CN201911372212.1申请日：20191227公开号：CN111129183A公开日：20200508
摘要：本发明属于吸收体光子器件的技术领域，一种宽带光吸收体结构，其由氧化铝封装层、阳极氧化铝模板AAO、倒锥洞状的2‑30层介质/金属复合层构成，其中，氧化铝封装层厚度为0.5‑5纳米，阳极氧化铝模板AAO厚度为100‑1500纳米，每层介质/金属复合层中，介质厚度为1‑150纳米，金属厚度为1‑50纳米。本发明还涉及该宽带光吸收体结构的制备方法。本发明对太阳能光的吸收效率高。
申请人：太原理工大学
地址：030024 山西省太原市万柏林区迎泽西大街79号
国籍：CN
代理机构：太原市科瑞达专利代理有限公司
代理人：李富元
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容