专利名称：低温等离子体复合光电催化去除污染物的方法与设
备
专利类型：发明专利发明人：张帆,蒲洪浩,周楷人申请号：CN201610745688.5申请日：20160829公开号：CN106345295A公开日：20170125
摘要：本发明公开了一种低温等离子体复合光电催化去除污染物的方法与设备，其方法部分包括：利用离子体放电产生的高能电子与有害气体分子作用，产生中间产物和紫外光；光催化剂在紫外光的照射下对中间产物进行吸附并氧化还原降解；其装置部分包括：相平行设置的上绝缘陶瓷板和下绝缘陶瓷板，所述上绝缘陶瓷板的上表面和下绝缘陶瓷板下表面均设置有用于电极，所述上绝缘陶瓷板和下绝缘陶瓷板之间填充有光催化剂，所述光催化剂同时与上绝缘陶瓷板和下绝缘陶瓷板接触；其净化效率高，对等离子体产生的紫外光进行利用，并降低了净化的中间产物生成。
申请人：四川环翔科技有限责任公司
地址：610000 四川省成都市高新区世纪城南路599号天府软件园D区6栋505号
国籍：CN
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