专利名称：铬光罩制造方法专利类型：发明专利发明人：蔡晴夫
申请号：CN200510008205.5申请日：20050207公开号：CN1749852A公开日：20060322
摘要：本发明揭示一种铬光罩制造方法。一光罩基材以活化剂活化其上表面，以用于无电极铬电镀。其次，该活化光罩基材接着沉浸于无电极铬电镀溶液中，以镀上薄的铬层，此无电极铬电镀制程将一直持续到所要的厚度形成为止。较佳地，当最初的无电极电镀铬层成长至所要的厚度之后，一电镀制程可被使用。接着，将具有铬层的该光罩基材暴露于氧化环境，以于该铬层上形成一抗反射层。之后，一光阻膜形成于该反射层上。接着该光阻膜根据预先决定的图案形成图案。其次，穿过该带有图案光阻膜上的开口，干式蚀刻或湿式蚀刻该反射层及该铬层，随后再将该光阻膜去除以形成所要的光罩。
申请人：盟图科技股份有限公司
地址：台湾省新竹
国籍：CN
代理机构：中原信达知识产权代理有限责任公司
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