专利名称：亚波长结构的减反射膜的制备方法专利类型：发明专利
发明人：黄其煜,任万春,杨旭一,苏林,陈姗姗申请号：CN200810201932.7申请日：20081030公开号：CN101398618A公开日：20090401
摘要：一种化工领域的亚波长结构的减反射膜的制备方法，包括如下步骤：步骤一，清洗硅片，烘干后冷却硅片至室温；步骤二，清洗多孔阳极氧化铝模板，在多孔阳极氧化铝模板上蒸镀脱模剂；步骤三，先慢速旋转硅片，使光刻胶均匀地在硅片表面铺开，然后高速下高速旋转硅片，甩掉多余的光刻胶，使得光刻胶减薄和均匀化；步骤四，将表面蒸镀了脱模剂的多孔阳极氧化铝模板与旋涂了均匀厚度光刻胶的硅片基底对准，然后将多孔阳极氧化铝模板压入光刻胶层中，采用紫外光光源对光刻胶进行曝光固化；步骤五，固化完毕后，剥离多孔阳极氧化铝模板，剥离后制成的光刻胶为减反射膜。本发明制得的减反射膜对宽波段的光线具有良好的减反射效果。
申请人：上海交通大学
地址：200240 上海市闵行区东川路800号
国籍：CN
代理机构：上海交达专利事务所
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