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一种增强AlN薄膜择优取向生长的沉积方法

2021-07-25 来源:小侦探旅游网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(21)申请号 CN201010183319.4 (22)申请日 2010.05.26 (71)申请人 湖南大学

地址 410082 湖南省长沙市麓山南路2号

(10)申请公布号 CN101824592B

(43)申请公布日 2011.07.20

(72)发明人 周灵平;李智;朱家俊;彭坤

(74)专利代理机构 长沙正奇专利事务所有限责任公司

代理人 马强

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

一种增强AlN薄膜择优取向生长的沉积方法

(57)摘要

一种增强AlN薄膜择优取向生长的沉

积方法,步骤有:采用离子束辅助沉积技术制备AlN同质过渡层:在衬底上用2.0~2.5keV/20~50mA的Ar 法律状态

法律状态公告日

2010-09-08 2010-09-08 2010-10-27 2010-10-27 2011-07-20 2011-07-20

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权

法律状态信息

公开 公开

法律状态

实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权

法律状态公告日

2018-09-04

法律状态信息

专利申请权、专利权的转移

法律状态

专利申请权、专利权的转移

权利要求说明书

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说明书

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