专利名称：产生远紫外光的设备以及对远紫外辐射光刻光源的
应用
专利类型：发明专利
发明人：G·谢莫尔,P·科尔蒙,P-Y·特罗,O·萨布利蒙捷,M·施密
特,B·巴尔托
申请号：CN200580019552.6申请日：20050614公开号：CN101019078A公开日：20070815
摘要：本发明涉及一种用于在激光束(1)聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶(4)的设备(2)，该靶能够通过与聚焦的激光束(1)相互作用而发射等离子体，该等离子体发射远紫外辐射。接收设备(3)在靶(4)与聚焦的激光束(1)相互作用之后接收靶(4)，同时收集设备(110)收集由靶(4)发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶(4)上的元件(11)被布置成使得通过使激光束(1)位于相对于靶(4)的公共半空间内并通过相对于垂直于靶(4)的中间收集轴(6)倾斜大约60°至90°之间的预定角度而使得激光束(1)侧向聚焦在靶(4)上。收集设备(110)相对于中间收集轴(6)对称布置在包含聚焦在靶(4)上的激光束(1)的半空间内，且在中间收集轴(6)为中心的锥形空间(8)内，该锥形空间(8)的顶点位于靶(4)上，且顶点处的半角小于相对于该中间收集轴(6)的聚焦的激光束(1)的倾斜角度。该设备适于用作在光刻中用于EUV辐射的光源，用于制造集成电路。
申请人：原子能源局,阿尔卡特真空技术法国公司
地址：法国巴黎市
国籍：FR
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
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