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铟靶材及其制造方法

2022-06-08 来源:小侦探旅游网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201180004844.8 (22)申请日 2011.05.12

(71)申请人 JX日矿日石金属株式会社

地址 日本东京都

(10)申请公布号 CN102652185A

(43)申请公布日 2012.08.29

(72)发明人 前川贵诚;远藤瑶辅

(74)专利代理机构 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司

代理人 张淑珍

(51)Int.CI

C23C14/34;

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

铟靶材及其制造方法

(57)摘要

本发明提供一种可良好地抑制异常放电产

生的铟靶材及其制造方法。该铟靶材的靶材表面的算术平均粗糙度(Ra)为1.6μm以下。

法律状态

法律状态公告日

2012-08-29 2012-10-17

公开

实质审查的生效

法律状态信息

公开

法律状态

实质审查的生效

法律状态公告日

2016-11-09

法律状态信息

发明专利申请公布后的驳回

法律状态

发明专利申请公布后的驳回

权利要求说明书

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说明书

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