专利名称：衬底处理方法和衬底处理设备专利类型：发明专利
发明人：关口贤治,内田范臣,田中晓,大野广基申请号：CN200680022348.4申请日：20060329公开号：CN101253604A公开日：20080827
摘要：本发明提出一种衬底(W)，它用处理液如去离子水进行处理。接着，从流体喷嘴(12)向衬底(W)的上表面供给比处理液更易挥发的第一流体以形成液体膜。接下来，当晶片(W)被旋转时，从流体喷嘴(12)向衬底(W)的上表面供给比处理液更易挥发的第二流体。在此供给操作期间，从衬底(W)的旋转中心(Po)朝外径向移动向衬底(W)供给第二流体的供给位置(Sf)。结果，在通过使用第一流体和第二流体干燥衬底(W)后可以防止在衬底(W)上产生颗粒。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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