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具有静电放电保护电路的半导体器件及其制造方法[发明专利]

2021-06-29 来源:小侦探旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:具有静电放电保护电路的半导体器件及其制造方法专利类型:发明专利

发明人:朴明圭,金炳善,李泰政,房基仁申请号:CN200810175627.5申请日:20080718公开号:CN101388392A公开日:20090318

摘要:本发明提供一种具有片上型静电放电(ESD)保护电路的半导体器件及其制造方法。该片上型ESD保护电路可以包括在半导体衬底中具有接触第二导电型区域的第一导电型区域的第一结型二极管以及具有布置在半导体衬底的第一导电型区域上且接触该第一导电型区域的金属性材料层的第一肖特基二极管。

申请人:三星电子株式会社

地址:韩国京畿道

国籍:KR

代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:陶凤波

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