专利名称：研磨用组合物、使用了其的研磨方法和基板的制造
方法
专利类型：发明专利
发明人：土屋公亮,森嘉男,高见信一郎,高桥修平申请号：CN201280051935.1申请日：20121009公开号：CN103890114A公开日：20140625
摘要：本发明提供一种研磨用组合物，其特征在于，其为含有磨粒、水溶性高分子、聚集抑制剂和水的研磨用组合物，在将前述研磨用组合物中存在的颗粒的平均粒径设为R1、将使前述磨粒分散在水中而使得与前述研磨用组合物中的磨粒的浓度相同时的磨粒的平均粒径设为R2的情况下，R1/R2为1.3以下。该研磨用组合物主要在研磨硅基板的表面的用途中使用。
申请人：福吉米株式会社
地址：日本爱知县
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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