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一种新型图形化衬底

2020-10-27 来源:小侦探旅游网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明

(21)申请号 CN201810074402.4 (22)申请日 2018.01.25

(71)申请人 北京大学东莞光电研究院

地址 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区沁园路17号

(10)申请公布号 CN108336201B

(43)申请公布日 2020.01.17

(72)发明人 李成明;王琦;张国义

(74)专利代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司

代理人 罗晓林

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

一种新型图形化衬底

(57)摘要

本发明公开了一种新型图形化衬底,包括

衬底,所述衬底上外延生长有核心层和包层,包层包覆在核心层外,包层与核心层保持同一高度或者不同高度,核心层和包层都至少设置一层,当核心层和包层设置两层或者两层以上时,不同的核心层的高度、形状相同或不同,不同的包层的高度、形状相同或者不同。本发明能够沿核心层向外,逐步加工出具有不同晶格、不同热膨胀系数以及应力应变系数的多层材料,根据需要做

多种选择,可以得到小曲率半径、高质量外延层,对于光电子器件的发展,具有重要意义。

法律状态

法律状态公告日

2018-07-27 2018-07-27 2018-07-27 2018-08-21 2018-08-21 2020-01-17

法律状态信息

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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