专利名称：薄膜形成装置专利类型：发明专利发明人：伊藤弘基申请号：CN91104119.2申请日：19910615公开号：CN1057492A公开日：19920101
摘要：本发明公开了一种薄膜形成装置，包括真空室， 真空室中有基板和相对设置的、喷出蒸镀物质蒸气产 生蒸镀物质结团粒子的蒸气发生源，使所述结团粒子 部分电离的电离的装置以及提供电离的结团粒子动 能向所述基板碰撞的加速装置；还具有将较小尺度电 离的结团粒子去除的过滤装置。其加速装置还可以 由正偏置的加速电极和相对于该加速电极成负偏置 的引出电极以及接地电极构成。
申请人：三菱电机株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：上海专利事务所
代理人：颜承根
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